真空电镀可分为真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型。它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在镀件表面沉积各种金属和非金属薄膜，如此形成的一层薄镀层，不但附着力很好而且质感好，因此价格也是较高的。由于能进行的金属靶材少，所以一般用作较高档产品的功能性镀层，例如钟表电镀，高档的首饰电镀。常见电镀工艺有两种：水电镀和真空离子镀
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真空离子镀，又称真空镀膜。随着人民的生活水平的提高，人民对物质要求也有所提高所以现在真空电镀是一种流行的做法，做出来的产品金属感强，亮度高．而相对其他的镀膜来说，对环境的污染小，被国家推行，现已为各行业广泛采用．
真空溅射法是在高度真空条件下加热金属，让惰性气体氩气不断的撞击靶材，金属靶材分离成离子状被带电的镀件均匀的吸附，然后冷却后形成一层很薄的镀层。
加热金属的方法：有利用电阻产生的热能，也有利用电子束的。
将镀金属和被镀金属制品于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到导电的金属表面凝聚成金属薄膜。
在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向金属制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等)，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低( 10-5Pa )。
镀层厚度0.03-0.1um太薄，反射率低;镀层太厚，附着力差，易脱落。厚度0.03时反射率为90%。
