真空镀膜加工进程非常复杂，由于镀膜原理的不一样分为许多品种，只是由于都需求高质量真空镀膜加工而具有一致称号。所以关于不一样原理的真空离子镀加工，影响均匀性的要素也不尽相同。而且均匀性这个概念自身也会跟着镀膜标准和薄膜成分而有着不一样的含义。
薄膜均匀性的概念：
1.厚度上的均匀性，也能够理解为粗糙度，在光学薄膜的标准上看(也即是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性现已相当好，能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内，也即是说关于薄膜的光学特性来说，真空镀膜加工没有任何妨碍。
可是假如是指原子层标准上的均匀度，也即是说要完成10A乃至1A的外表平坦，是如今真空镀膜中首要的技能含量与技能瓶颈地点，详细操控要素下面会依据不一样镀膜给出详细解说。
2.化学组分上的均匀性：
即是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于标准过小而很简略的发生不均匀特性，SiTiO3薄膜，假如镀膜进程不科学，那么实践外表的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的份额，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜加工的技能含量地点。
3.晶格有序度的均匀性：
这决议了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技能中的热点疑问，详细见下。
首要分类有两个大品种：
蒸腾堆积镀膜和溅射堆积镀膜，详细则包含许多品种，包含真空离子镀蒸腾，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等
一、关于蒸腾镀膜：
通常是加热靶材使外表组分以原子团或离子方式被蒸腾出来，而且沉降在基片外表，经过成膜进程(散点-岛状布局-迷走布局-层状成长)构成薄膜。
厚度均匀性首要取决于：
1、基片资料与靶材的晶格匹配程度
2、基片外表温度
3、蒸腾功率，速率
4、真空度
5、镀膜时刻，厚度巨细。
组分均匀性：
蒸腾镀膜组分均匀性不是很简略确保，详细能够调控的要素同上，可是由于原理所限，关于非单一组分镀膜，蒸腾镀膜的组分均匀性欠好。
晶向均匀性：
1、晶格匹配度
2、基片温度
3、蒸腾速率
二、.关于溅射类镀膜，能够简略理解为使用电子或高能激光炮击靶材，并使外表组分以原子团或离子方式被溅射出来，而且结尾堆积在基片外表，阅历成膜进程，结尾构成薄膜。
溅射镀膜又分为许多种，整体看，与蒸腾镀膜的不一样点在于溅射速率将成为首要参数之一。溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性简略坚持，而原子标准的厚度均匀性相对较差(由于是脉冲溅射)，晶向(外沿)成长的操控也对比通常。以pld为例，要素首要有：靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜空气(低压气体空气)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时刻。关于不一样的溅射资料和基片，最佳参数需求试验断定，是各不相同的，镀膜设备的好坏首要在于能否准确控温，能否确保好的真空度，能否确保好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技能，现已对比好的处理了如上所属的疑问，可是根本用于试验研讨，工业生产上对比常用的一体式镀膜机首要以离子蒸腾镀膜和磁控溅射镀膜为主。
