工件架的设计应使工件膜层均匀，离子真空镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源，工件架应与真空室体绝缘。离子轰击电源应具有抑制非正常放电装置，维持工作稳定真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的大小，均按GB/T11164-1999中的4.4.6
利用气体放电使气体或被蒸发物质局部离化，离子镀是真空条件下。气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物沉积在基片上。
技术要求：一、设备正常工作条件1环境温度：10-30oC2相对湿度：不大于75%3冷却水进水温度：不高于25oC4冷却水质：乡村自来水或相当质量的水5供电电源：380V三相50Hz或220V单相50Hz由所用电器需要而定）电压动摇范围：342-399V或198-231V频率动摇范围：49-51Hz.
液氮，6设备所需的压缩空气。冷水、热水等的压力、温度，消耗量等，均应在产品使用说明书中写明。
空气清洁，7设备周围环境整洁。不应有引起电器及其他金属件外表腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在
并易于调节控制。
二、设备技术参数1设备的主要技术参数2设备堆积源的工作状况应稳定、可靠、平安。
工件相对真空室体一般为负电位，3设备在正常镀膜时。真空室体接地。
均接不同的电位。电位高低根据不同离子真空镀膜设备的不同种类和不同功率要求而定。4堆积源、工件、真空室体。
应符合GB/T6070规定。三、结构要求1设备中的真空管道、静态密封零部件（法兰、密封圈等）结构形式。
分别丈量各部位的真空度。当发现电场对丈量造成干扰时，2低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应装置真空丈量规管。应在丈量口处装置电场屏蔽装置。
应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱4设备的镀膜室应设有观察窗，3如果设备使用的主泵为扩散泵时。应设有挡板装置。观察窗应能观察到堆积源的工作情况以及其他关键部位。
提高镀膜资料的利用率，5离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率。合理匹配堆积源的功率，合理布置堆积源在真空室体的位置。
一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。6合理布置加热装置。
