不同的真空离子镀设备，其构成有所不同。 说明这类设备的基本组成。现以图6.3所示的空心阴极离子镀设备为例，说明这类设备的基本组成。
（1）真空镀膜室：镀覆材料蒸发、等离子体产生、镀膜沉积的空间。
（2）坩埚：用以加热蒸发镀覆材料，并且是电场的阳极。
（3）基板：安装工件的所在，工作时它在电场中为阴极，在空心阴极离子镀中它加有一'定的负偏压。
（4）空心阴极：在它和阳极之间启动离子弧。
（5）抽真空系统：功能是使镀膜室获得本底真空度。
（6）供气系统：向镀膜室输送工作气和反应气。
（7）电源系统：包括引弧电源、基板负偏压电源、轰击负偏压电源、磁控系统电源和烘烤电源等。
（8）磁控系统：包括坩埚聚焦线圈、偏转线圈，其作用分别为离子弧聚焦和控制离子流动的方向。
（9）烘烤装置：作用是在离子弧激发之前烘烤预热工作。
