真空镀膜技术是现今一种最新颖的材料合成与加工的新技术，是表面处理技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是使置待镀金属制品位于真空炉内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到冷的金属制品表面凝聚成金属薄膜。
在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向金属制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低（ 10-5Pa ）。镀层厚度0.04-0.1um,太薄，反射率低；太厚，附着力差，易脱落。厚度0.04时反射率为90%。从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。
因此真空镀膜技术被誉为当今世界最具发展前途的重要技术之一 ，并已在高技术产业化的发展中展现出诱人的市场前景。这种新兴的真空镀膜技术已在国民经济各个领域得到应用，如航空、航天、电子、信息、机械、石油、化工、环保、军事等领域，且能镀出来的颜色也很多，如：IP黑，IP金，玫瑰金，IP灰等。
