真空镀膜工艺衬底（基片）外表的清洁处置很重要。达到工件去油、去污和脱水的目的基片外表污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、抛光膏、油脂、汗渍等物；零件外表在湿润空气中生成的氧化膜；零件外表吸收和吸附的气体。这些污物基本上均可采用去油或化学清洗方法将其去掉。
这类真空装置（设备）对真空卫生的要求：所谓惯例真空工艺系指没有特殊要求的真空工艺过程。都要求无积存的污染源，1.凡是处于真空中的真空设备零件。外表无尘埃，无铁屑、无锈蚀；
2.真空电镀设备的真空室外表要光滑、无松软组织和气孔、无内焊缝等影响真空的缺陷；
真空室内的运动部件不得用机油作润滑剂，3高真空设备中。要用饱和蒸气压低的扩散泵油、硅油作润滑剂；法兰、观察
窗的密封部件要涂以高真空油脂；相对湿度不高于70%清洁空气流通的环境中工作， 4.真空电镀设备一般应在温度为
1530℃。冷却水进水温度不高于25℃。还要满足其他性能的要求，电真空结构资料除具有良好的机械性能
